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无尘烤箱，无氧烤箱，充氮烤箱，加压烤箱
添加时间：2019-07-24
百级无尘室烤箱 简介：无尘室烤箱适用于半导体芯片行业，硅片，砷化镓、铌酸锂、光学玻璃等材料的预热处理烘烤；涂胶后坚膜烘烤和显影后高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药制品、实验室等生产及科研部门；HMDS无尘烤箱可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS保护层，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
1、温控系统：采用触摸屏一体机控制器，内置2回路温度控制，多段温度设备，多段时间设置功能，具有选段工艺烘烤，跳段工艺烘烤，操作人员记录，日本进口PID温控模块，4路控制器，高温上限报警，程序运行结束报警功能，热电偶失效指示，温度曲线记录，可将烤箱内实时环境温度进行检测打印的功能。
2、软件系统：控制系统采用昆仑通泰触摸屏控制器，可与现场总线联机远程操控。
3、HMDS烤箱重要性：在半导体、LCD琉璃、液晶屏幕生产艺艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺显得尤为重要，光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条，浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
4、充氮系统：作用是在置换过程中，用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽，从而最终替空气或药液蒸汽的气氛，主要由氮气源、控制阀和喷头组成。
用途：
百级洁净烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤,涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤;也适用于电子液晶显示、LC、，COMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门;也可用于非挥发性及易燃易爆物品的干燥，热处理，老化等其他高温实验。
无尘无氧烤箱应用于精密电子元件、PI、BCB胶高温固体烘烤、光刻胶固体、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于接触屏、晶圆、LED、PCB板、ITO玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业。
无氧烤箱应用于精密电子元板、PI、BCB胶高温固体烘烤、光刻胶固体、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于接触屏、晶圆、LED、PCB板、ITO玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业。
HMDS无尘烤箱降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶于硅片的粘附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的粘合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮条等，导致光刻图形转移失败，同事湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增粘剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好的改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面的由亲水变为疏水，其疏水可很好的于光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
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